Bouwen snelle aandrijving van een Reticle Stage

Een Reticle Stage is een bewegend platform voor een reticle zoals gebruikt in de lithografie industrie. Voor het PAS5500-team van ASML (2004) was ik architect van de snellere reticle stage (HS-RS; High Speed Reticle Stage). Deze is generiek ingevoerd en vervangt hierbij de oude RS. Voor de RS is de scansnelheid verhoogd van 1,0 m/s tot 1,28 m/s. Hiertoe was meer slag-ruimte benodigd dan voorhanden was. Ik heb hier meer ruimte ontworpen, en de nodige tolerantieberekening verricht.
Ten behoeve van de hogere snelheid heb ik de einde-slag-dempers geredesigned. De slag van de dempers is toegenomen, en ook de maximale toegestane afremkracht is verhoogd waarbij rekening is gehouden met de beperkte stijfheid van de luchtlagering.

De versnelling is verhoogd van 20 m/s2 tot 24 m/s2. Dit is mogelijk gemaakt door sterkere motor-magneten te gebruiken, hierdoor kan namelijk bij eenzelfde motorstroom meer kracht ontwikkeld worden.
Hierdoor neemt echter ook de aantrekkracht tussen motor-ijzer en magneten toe waardoor de luchtspleet van de luchtlagering te klein was. Dit is opgelost door een groter luchtlager te ontwerpen, en tevens door de voorspanmagneten voor de luchtlagers aan te passen. Ik heb een patent verkregen op een vinding om de voorspanmagneten in de luchtvoet te integreren om zodoende de constructie kleiner en lichter te kunnen maken.

Hier een beschrijving van het patent van het voorgespannen luchtlager.